Segondè pite grafit blòk
video

Segondè pite grafit blòk

Se High Purity Graphite Block usinage soti nan gwo -grafit pite pou soude ak segondè -tanperati aplikasyon pou, bay rezistans chalè ki estab, pwezante egzak, ak kontaminasyon redwi pandan pwosesis.
Voye rechèch

Dekri teren

Karakteristik teknik

Apèsi sou pwodwi a

 

Se High Purity Graphite Block usinage soti nan gwo -grafit pite pou soude ak segondè -tanperati aplikasyon pou, bay rezistans chalè ki estab, pwezante egzak, ak kontaminasyon redwi pandan pwosesis.

 

Espesifikasyon teknik

 

Espesifikasyon teknik

Dimansyon tolerans: ± 0.01 mm (Verifye atravè enspeksyon CMM avanse)
Pite materyèl: Pi gran pase oswa egal a 99.95% Kabòn Fiks (XRD-teste; san fè ak enpurte aliminyòm)
Dansite: Pi gran pase oswa egal a 2.1 g/cm³
Vite tèmik: Jiska 500 sik tèmik (Mwayèn mache: 400 sik)
Rediksyon porosite: Diminye porosite depoze aliminyòm pa plis pase 30%.

 

Avantaj kle pwodwi yo

 

Manifaktire a partir de sele ultra-amann petwòl coke ak yon kontni kabòn fiks ki depase 99.95%, sipòte pèfòmans ki estab, alontèm- nan pwosesis tèmik ekstrèm.

Machin avanse CNC milti-aks reyalize tolerans dimansyon strik nan ± 0.01 mm, garanti egzat Fitting ak rezilta pwodiksyon repete.

Estrikti grafit ki gen gwo -dansite (pi gran pase oswa egal a 2.1 g/cm³) bay rezistans eksepsyonèl nan oksidasyon, mete mekanik, chòk tèmik, ak pénétration metal fonn.

 

Kapasite Personnalisation

 

Sèvis machin presizyon

  • Jeyometri konplèks: avanse milti-aks CNC fraisage, vire, perçage, ak fant pou pwodwi fòm konplike, genyen siyon, ak kontou.
  • Ultra-Tolerans Sere: Kapab reyalize tolerans dimansyon jiska ± 0.005 mm pou eleman enpòtan ki wo-anfòm.
  • Fini sifas: Polisaj sifas Customized ak tretman teksti pou satisfè kondisyon espesifik vakyòm oswa semi-conducteurs, minimize degassaj ak jenerasyon patikil.

Jeni & CAD sipò

  • Fòma Fichye Aksepte: Nou san pwoblèm entegre ak workflow konsepsyon ou a, aksepte STEP, IGES, DWG, DXF, ak fòma SolidWorks.
  • Design for Manufacturing (DFM): Ekip jeni -nan kay nou an revize desen ou yo epi bay fidbak pwofesyonèl pou optimize itilizasyon materyèl, redwi depans machinn yo, ak amelyore pèfòmans tèmik.
  • Pwototip rapid: rapid-swiv pou pwototip koutim pou sipòte R&D ak faz tès ou yo anvan ou angaje yo nan pwodiksyon total-echèl.

 

Aplikasyon tipik

 

Semiconductor ak endistri fotovoltaik:Eleman pou founo rale kristal ak anviwònman vakyòm tanperati ki wo.

Distribisyon metal ki pa -fèr:Mouri, mwazi, ak eleman depoze kontinyèl.

EDM (Dechaj Elektrik Machining):Elektwòd grafit segondè -pèfòmans pou fabrikasyon mwazi konplike.

Pwosesis Endistriyèl tèmik:Sintering bato, eleman chofaj, ak aparèy brasaj.

 

Pwosesis Faktori & Kontwòl Kalite

 

Preparasyon materyèl bwit:Ultra-koke petwòl byen trete atravè melanj avanse.

Peze izostatik:Asire pwopriyete izotwòp, elimine feblès direksyon nan fòs ak ekspansyon tèmik.

Pirifikasyon -tanperati segondè:Pwosesis grafitizasyon ak pirifikasyon kondwi jiska tanperati ekstrèm pou chase eleman temèt yo.

Machin presizyon ak enspeksyon CMM:CNC mete ki te swiv pa sevè verifikasyon CMM pou asire ke chak blòk satisfè desen jeni egzak.

 

Sètifikasyon & Asirans Kalite

 

ISO 9001:2015 sètifye:Enstalasyon fabrikasyon nou yo opere anba estanda strik jesyon kalite entènasyonal yo.

Rapò tès materyèl (MTR):Chak pakèt anbake ak yon sètifika konplè analiz chimik ak fizik.

Konfòmite anviwònman an:Matyè premyè ak pwosesis konplètman konfòme yo ak estanda anviwònman ak sekirite mondyal (RoHS ak REACH).

 

Sekirize Shipping & Lojistik Asirans

 

Pwoteksyon baryè- imidite:Chak blòk endividyèl yo se vakyòm-sele nan gwo-fim imidite-prèv pou anpeche oksidasyon ak absòpsyon imidite pandan transpò lanmè oswa lè.

Absòpsyon enpak:Kousen kim ki gen gwo -dansite EPE (Polyethylene elaji) ki kouvri chak blòk, absòbe chòk ak vibrasyon pandan manyen yo.

Ekspòtasyon-Kòs Klas:Anseye an sekirite andedan fumigasyon-kas an bwa solid gratis ki konfòme yo ak estanda ISPM 15 entènasyonal yo, sa ki elimine reta nan ladwàn yo nèt.

Sipò lojistik mondyal:Nou fè patenarya ak transpòtè machandiz mondyal ki serye pou ofri kondisyon transpò fleksib tankou FOB, CIF, DDP, ak DDU, ak swiv tan reyèl-pou chak chajman.

 

FAQ

 

K: Èske ou bay rapò tès materyèl (MTR) ak chak chajman?

A: Wi, chak pakèt sibi tès laboratwa strik, epi yo enkli yon MTR konplè ki detaye pite, dansite, ak kontni sann sou livrezon.

K: Ki tan estanda ou pou pwototip ak lòd esansyèl?

R: D' estanda pwototip en pran 5 a 7 jou ouvrab, pandan ke pwodiksyon en sont dabitid konplete nan 2 a 4 semèn selon volim.

K: Ki jan blòk grafit sa yo pake pou anpeche domaj anbake?

A: Chak blòk vlope endividyèlman nan fim vakyòm prèv imidite-, kousen ak kim EPE ki gen gwo-dansite, epi chaje nan kas ekspòtasyon an bwa ki gratis nan fumigasyon-.

K: Ki Kantite Lòd Minimòm (MOQ) pou blòk machin koutim-?

A: Nou sipòte pwototip volim ki ba -ki pa gen okenn MOQ strik, menm si pri a nivo aplike pou pi gwo pakèt pwodiksyon komèsyal yo.

K: Èske ou ka siyen yon Akò ki pa -Divilgasyon (NDA) pou konsepsyon pwojè koutim?

A: Wi, nou regilyèman siyen NDA bilateral yo pwoteje desen propriétaires ou, espesifikasyon, ak pwopriyete entelektyèl.

Baj popilè: segondè pite grafit blòk, Lachin segondè pite grafit blòk manifaktirè, Swèd, faktori

konparezon paramèt pwodwi yo

 

Domèn endistri Senaryo aplikasyon debaz Kondisyon teknik Manifestasyon valè (dataization)
Materyèl anod batri ityòm (pwodwi prensipal, kontablite pou 75%) Atifisyèl grafit / Natirèl grafit / Silisyòm-kabòn anod grafitizasyon founo pawa, plak gid, blòk sipò Pite pi gran pase oswa egal a 99.95%, kontni sann mwens pase oswa egal a 50 ppm, lavi rezistans oksidasyon pi gran pase oswa egal a 700 founo Inisyal efikasite anod ogmante pa 0.8%, lavi sik ogmante pa 5%, konsistans pakèt rive nan 98%
Materyèl batri depo enèji Elektwòd negatif pou pil depo enèji gwo-kapasite, segondè-sipò SINTERING tanperati, wo -kouch izolasyon gwo founo dife. Segondè -tanperati ki reziste jiska 2200 degre, konduktiviti tèmik Pi gran pase oswa egal a 120W/(m・K) Kapasite pwodiksyon sèl gwo founo ogmante pa 25%, konsomasyon enèji redwi pa 6%, sik antretyen ekipman pwolonje pa 3 fwa
Fotovoltaik semi-conducteurs Silisyòm monokristalin / Silisyòm polikristalin segondè -tanperati gwo founo dife konpozan jaden tèmik, semi-conducteurs difizyon founo pati grafit Pite pi gran pase oswa egal a 99.99%, kontni sann mwens pase oswa egal a 5 ppm, presizyon dimansyon ± 0.05mm Silisyòm wafer konvèsyon efikasite ogmante pa 0.3%, sede pwodwi ogmante pa 2.5%
Segondè -sintering poud tanperati Seramik poud, ra poud metal, atmosfè inaktif, segondè -sipò tanperati Prèv dans ak koule -, rezistan a tanperati ki wo jiska 2000 degre, ak rezistan a chòk tèmik. Pousantaj rekiperasyon poud la te ogmante pa 9%, e inifòmite sintering la te rive nan 97%.

Voye rechèch